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H94-37型(LED)6″雙面光刻機

更新:2017-1-9 16:07:16      點擊:
  • 品牌:   SVC
  • 型號:   H94-37型(LED)
  • 市場價:    元
  • 優惠價:    元 (已有 0 人購買)
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產品介紹

  


主要用途 
      主要用于集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學器件研制和
生產。由于本機找平機構先進,找平力小,使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光。


工作方式

      本機采用雙面對準單面曝光方式。既可以對基片的正面進行對準曝光,又可對基片的反面相對于正面對準曝光。

主要構成
      主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場立式顯微鏡、雙目分離視場臥式顯微鏡、數字式攝像頭、計算機成象記憶系統、多點光源(蠅眼)曝光頭、PLC控制系統、氣動系統、真空系統、直聯式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

 


主要功能特點

1.曝光類型:正反面對準單面曝光;

2.曝光面積:160×160mm;★

3.曝光照度不均勻性:≤3%;★

4.曝光強度:≥30mw/cm2可調;★

5.紫外光束角:≤3˚;★

6.紫外光中心波長:365nm、404nm、435nm可選:

7.紫外光源壽命:≥2萬小時;

8.曝光分辨率:1μm;

9.曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;

10.顯微鏡掃描范圍:X:±40mm   Y:±30mm;★

11.對準范圍:X、Y粗調±3mm,細調±0.3mm;Q粗調±15°,細調±3°;★

12.套刻精度:1μm;★

13.分離量;0~50μm可調;★

14.接觸-分離漂移:≤1μm;★

15.曝光方式:密著曝光,可實現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;

16.找平方式:三點式自動找平;★

17.顯微系統:

1)正面對準采用雙視場CCD立式顯微鏡,總放大倍數45X~300X(物鏡放大倍數1.1X~7.5X連續變倍),雙物鏡可調距離11mm~100mm。掃描范圍:X±40mm ,Y±35mm; 

2)反面對準采用雙視場CCD臥式顯微鏡:總放大倍數60X、120X兩種(物鏡放大倍數2X、4X兩種),雙物鏡可調距離22mm~70mm;

3)兩種顯微鏡共用一套計算機圖像處理系統;

18.掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″、6″×6″、7″×7″;★

19.基片尺寸:φ2、φ3、φ4、φ5、φ6;★

20.基片厚度:≤5 mm;

21.曝光定時:0~999.9秒可調;

22.對準方式:切斯曼對準機構!

23.曝光頭轉位:氣動;

24. 電源:單相AC220V  50HZ ,功耗≤1KW;

25.潔凈空氣壓力:≥0.4MPa;

26.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;

27.尺寸: 920mm(長)×680mm(寬)×1600mm(高);

28.重量:約180Kg。



 


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